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Fabricação em canaletas em substratos de silício para acoplamento fibra-guia utilizando siliceto de níquel como material de máscara

Amanda Rossi Mascaro Nilton Itiro Morimoto 1962-

Localização: EPBC - Esc. Politécnica-Bib Central (FD-4829 )(Acessar)

Título:
Fabricação em canaletas em substratos de silício para acoplamento fibra-guia utilizando siliceto de níquel como material de máscara
Autor: Amanda Rossi Mascaro
Nilton Itiro Morimoto 1962-
Assuntos: MICROELETRÔNICA
Notas: Dissertação (Mestrado)
Notas Locais: Programa Engenharia Elétrica
Descrição: Neste trabalho, apresentamos um novo processo de fabricação para a obtenção de canaletas em V em substratos de silício monocristalino (100) para um acoplamento óptico utilizando siliceto de níquel como material de máscara. O filme de siliceto de níquel (200nm de espessura) foi obtido por processos de evaporação térmica e posterior recozimento a baixas temperaturas (200 e 250°C). As canaletas em V (com profundidade de 60 µm) foram fabricadas através do processo de corrosão anisotrópica, utilizando uma solução de KOH (27%-60°C). Durante este processo, a taxa de corrosão do substrato de silício pela solução de KOH foi estimada como sendo 33.1 µm/h. A composição da camada de siliceto de níquel obtida foi investigada utilizando a técnica RBS, que nos forneceu a estequiometria Ni2Si. A rugosidade de filmes de níquel e de Ni2Si foi medida pela técnica AFM. Uma análise SEM foi feita com as estruturas obtidas. Após o processamento das canaletas em V, elas foram alinhadas com um guia de onda simples de teste para um futuro acoplamento óptico.
Data de criação/publicação: 2007
Formato: 58 p.
Idioma: Português

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